সিভিডি ট্যানটালাম কার্বাইড (TaC) আবরণ

সাধারণত যখন SiC তার ক্ষমতার শেষ সীমায় পৌঁছাতে শুরু করে, তখন TaC কোটিং বিবেচনা করা হয়। এটি প্রায়শই SiC এপিট্যাক্সি বা ক্রিস্টাল গ্রোথের ক্ষেত্রে ঘটে, যেখানে তাপমাত্রা এবং প্রসেস অ্যাটমোস্ফিয়ার উভয়ই অধিক চাহিদাপূর্ণ।

অনেক বেশি গলনাঙ্ক থাকায়, TaC দীর্ঘ সময় ধরে উচ্চ তাপমাত্রা ভালোভাবে সহ্য করতে পারে, বিশেষ করে হাইড্রোজেন বা HCl যুক্ত পরিবেশে। বাস্তবে, PVT গ্রোথের মতো প্রক্রিয়াগুলিতে এটি একটি গুরুত্বপূর্ণ পার্থক্য তৈরি করে, যেখানে তাপীয় স্থিতিশীলতা সরাসরি স্ফটিকের গুণমানকে প্রভাবিত করে।

এর সাধারণ প্রয়োগগুলোর মধ্যে রয়েছে ফ্লো গাইড রিং, সিড হোল্ডার, ক্রুসিবল-সম্পর্কিত অংশ এবং থার্মাল ফিল্ডের ভেতরের অন্যান্য কাঠামো। এই উপাদানগুলো দীর্ঘ সময় ধরে কঠোর পরিস্থিতির সংস্পর্শে থাকে, তাই এদের ক্ষয়ক্ষতি কমানো গুরুত্বপূর্ণ হয়ে ওঠে। কিছু ক্ষেত্রে, TaC ধীরে ধীরে pBN-এর মতো পুরোনো উপাদান এবং এমনকি কিছু SiC-কোটেড অংশকেও প্রতিস্থাপন করছে, যদিও এটি এখনও খরচ এবং প্রসেস ডিজাইনের উপর নির্ভর করে।